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沿革

1947年 鈴木清太郎創立により鈴木製作所設立
光学機器の製造を開始する
1950年 SEIWAブランドの製品を製造販売
1951年 学校関係の販売に力を入れる
1955年 清和光学製作所と改名
ステレオ顕微鏡ユニット方式の販売開始
1960年 輸出業務を開始
同時にブランド名「CORRECT」として海外へ進出
1964年 資本金200万円で(株)清和光学製作所を設立
鈴木清太郎 代表取締役社長に就任
6月に輸出貢献企業認定証を受賞
1965年 大阪営業所として(有)清和光器商会を開設
1966年 資本金を500万円に増資
1972年 資本金を700万円に増資
1978年 労働基準監督賞受賞
1979年 ズームレンズの開発発表と共に電子機器と融合し、オプトエレクトロニクス事業を開始
1981年 東京都よりグッド商品認定証を受賞
岡崎春雄 代表取締役社長に就任
1985年 画像処理時代の幕開けに伴いモニタースコープのシリーズ化/ユニット化を図る
1986年 レーザー製品の開発製造に着手
1987年 資本金を1000万円に増資
1988年 コレクト本社新社屋完成<東京都中野区>
1989年 2月にて大型自動検査システム「AP-400」を発表、併せて技術の充実を図る。
世界最長の作動距離を誇る「アポクロマートレンズ」を開発、販売を開始する
1990年 コレクトショールーム完成
資本金を2000万円に増資
1994年 技術センター開設(東京都中野区)
フラットディスプレイ用設備事業強化
1995年 資本金を4000万円に増資
関西事業所開設(大阪府門真市)
次世代半導体用検査機器に参入
露光装置事業強化
1996年 産業装置事業及び電子機器製造工場のため上野原工場を新設(山梨県上野原市)
米国ニュージャージー州に「SEIWA AMERICA」設立
1997年 国際品質保証規格「ISO-9000S」準備開始
資本金を5000万円に増資
顕微鏡のデジタル化元年と位置づけ、デジタルマイクロスコープ発表
2000年 岡崎伊佐央 代表取締役社長に就任
国際品質保証規格「ISO-9001」認証取得
米国カリフォルニア州・シリコンバレーに現地法人
「SEIWA OPTICAL AMERICA,INC.」設立
資本金を9900万円に増資
2001年 関西事業所・枚方工場を新設(大阪府枚方市)
上野原工場を増築(2期)(山梨県上野原市)
2002年 LCDの大型化に伴い検査装置事業強化
(5G、6Gライン開発及び出荷)
2003年 韓国天安市に現地法人
「SEIWA OPTICAL KOREA,INC.」設立
中国上海市に現地合併法人
「SUNMAX OPTOELECTRONICS CORP.」設立
2004年 台湾新竹市に現地法人
「SEIWA OPTICAL TAIWAN,INC.」設立
世界最大のFPD露光装置開発、納入
ISO-9001 2000年版に移行認証される
東京工場(FAB2)新設(東京都中野区)
液晶第7世代用検査装置出荷
2005年 世界最速最大級のPDP露光装置開発、納入
枚方開発センターを新設(関西事業所移転)
「大阪府先端産業(IT関連分野)企業認定」(H16.9.28)
2006年 LCD8世代用検査装置開発、販売開始
2007年 長野事業所開設
2008年 「SEIWA OPTICAL KOREA INC」をソウル市に移設
2009年 国際環境規格「ISO14001-2004」認証取得
2010年 福岡営業所開設
2011年 中国上海に現地法人
「SEIWA OPTICAL(Shanghai) CO.,LTD」を設立
ドイツに現地法人
「SEIWA OPTICAL EUROPE GmbH」を設立
株式会社 コレクトメディアスにて環境事業を開始
2012年 中国深センに「中国深セン事務所」開設
φ300mmウエハー用両面露光装置リリース
2013年 シンガポールに現地法人
「SEIWA OPTICAL SINGAPORE PTE.,LTD.」を設立
両面同時ロールtoロール露光装置リリース
北陸太陽光発電所(2.4MW)を新設(福井県)

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