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メガピクセルカメラ対応テレセントリックレンズ FXLシリーズ |
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| (物体側テレセントリック) |
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| 型式 |
FXL-0.19X-120D-C |
FXL-1X-120D-C |
FXL-2X-100D-C |
| 光学倍率 |
0.19X±3% |
1X±3% |
2X±3% |
| 作動距離 |
120mm±3mm |
120mm±1mm |
100mm±1mm |
| 結像状態 |
倒立正像 |
倒立正像 |
倒立正像 |
| 物体側N.A. |
0.017 |
0.072 |
0.13 |
| 実効F |
6 |
7 |
8 |
| 絞り最小時実効F |
- |
125 |
178 |
| 物体側面分解能 |
21μm |
5.2μm |
2.9μm |
| 像面分解能 |
4.0μm |
5.2μm |
5.7μm |
| 対応ピクセルサイズ |
3.45μm |
3.45μm |
3.45μm |
| イメージサークル |
φ11mm |
φ11mm |
φ11mm |
| カメラマウント |
Cマウント |
Cマウント |
Cマウント |
| 設計波長 |
486-656nm |
486-656nm |
486-656nm |
| 光学ディストーション |
最大0.02%以下 |
最大0.05%以下 |
最大0.05%以下 |
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| *上記データは1部を除き、可変絞りを開放した時のものです。 |
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2007.09 シリコンウェハー結晶欠陥検査装置 《OSF検査装置》 |
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| シリコンウェハーのOSF結晶欠陥を微分干渉顕微鏡にて観察、数をカウントします。 |
| その他ニーズに合わせた検査装置をカスタマイズいたします。 |
| お問い合わせはください。・・・ sales@seiwaopt.co.jp |
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2006.09 レーザ加工用NUV対物レンズ20X、50X発売 |
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NUV Plan APO Objective
Hight N.A. and Long working Distance objective Lens for NUV |
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| 仕 様 |
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| モデルNO. |
UV Plan APO 20X |
UV Plan APO 50X |
| ガラス補正 |
0 |
1.0 |
0 |
1.0 |
| N.A. |
0.50 |
0.52 |
| 作業距離 |
12.0 |
10.0 |
| 波 長 |
345nm−1,064nm |
| 透過率 |
355nm 55%< |
355nm 50%< |
| 540nm 60%< |
540nm 70%< |
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